高溫反應倉是一種專門設計用于高溫環(huán)境下進行化學反應、材料合成和氣體分析的實驗設備。它廣泛應用于材料科學、化學工程、電子制造、冶金、環(huán)境監(jiān)測等多個領(lǐng)域，尤其適合需要在高溫下精確控制反應條件的實驗。

此外，高溫反應倉還具有良好的密封性和高效的氣體流通系統(tǒng)，支持在多種氣氛下進行實驗，如氮氣、氫氣、氧氣等反應氣氛，能夠滿足不同實驗需求。其堅固耐用的設計確保了長時間的高溫操作不影響設備性能，且易于清潔和維護。

通過高溫反應倉，科研人員能夠進行精確的材料表征、催化反應研究、薄膜沉積等高溫實驗，為科學研究和工業(yè)應用提供可靠的數(shù)據(jù)支持。無論是材料開發(fā)、熱處理，還是氣氛控制下的高溫反應，它都能為用戶提供穩(wěn)定、高效的實驗平臺，助力技術(shù)突破與創(chuàng)新。

設計介紹

我們的高溫反應倉采用先進的溫控技術(shù)，具備快速升溫、穩(wěn)定溫控、均勻加熱等特點，可以達到比較高的工作溫度，通?？稍?00°C至1500°C之間調(diào)整溫度范圍。反應倉內(nèi)設有智能溫度控制系統(tǒng)，能夠?qū)崟r監(jiān)控和調(diào)節(jié)溫度，保證實驗過程中的穩(wěn)定性和精確性。

1.腔體本體采用高真空不銹鋼材質(zhì)。

2.腔體主體設5個法蘭接口，f為進氣口法蘭總成，g法蘭口，e石英觀察窗法蘭1組。

3.腔體內(nèi)設加熱溫區(qū)3組，a目標溫區(qū)1位于X/Y方向中心，加熱最高溫度≥1150℃，控溫精度及恒溫運行溫度波動≤±1℃；b/c目標溫區(qū)2、3位于a溫區(qū)1的X方向兩側(cè)，加熱最高溫度≥950攝氏度，控溫精度及恒溫運行溫度波動≤±1℃，b/c溫區(qū)有在X方向的平移能力。

4.腔體鼓型的兩鼓面采用開普敦材質(zhì)密封，密封法蘭總成；沿Y方向水平掠過目標溫區(qū)1中心的光束與目標溫區(qū)1中心能散射出外壁窗口（開普敦窗口）Z方向的上限夾角≥62°，沿Y方向水平掠過目標溫區(qū)1中心的光束與目標溫區(qū)1中心能散射出外壁窗口（開普敦窗口）X方向的上限夾角≥50°（參加圖2，兩側(cè)，對稱的）。

5.冷卻循環(huán)及其功能組件（在三個溫區(qū)的最高運行溫度工作期間，不銹鋼殼體及開普敦窗口的最高溫度不超過105℃。